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光學鍍膜膜厚儀的測量原理是?
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  • 光學鍍膜膜厚儀的測量原理主要基于光學干涉現象。當光源發射出的光線照射到鍍膜表面時,一部分光線被反射,而另一部分則穿透薄膜并可能經過多層反射后再透出。這些反射和透射的光線之間會產生干涉效應。具體來說,膜厚儀通常會將光源發出的光分成兩束,一束作為參考光,另一束則作為測試光照射到待測薄膜上。參考光和測試光在薄膜表面或附近相遇時,由于光程差的存在,會發生干涉現象。干涉的結果會導致光強的變化,這種變化與薄膜的厚度密切相關。膜厚儀通過******測量這種干涉光強的變化,并結合薄膜的光學特性(如折射率、吸收率等),可以推導出薄膜的厚度信息。此外,膜厚儀還可以利用不同的測量方法,如反射法或透射法,來適應不同類型的材料和薄膜,從而提高測量的準確性和可靠性。總之,光學鍍膜膜厚儀通過利用光學干涉原理,結合精密的測量技術,能夠實現對薄膜厚度的非接觸、無損傷測量,為薄膜制備和應用領域提供了重要的技術支持。

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