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光刻膠膜厚儀的測量原理是?
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  • 光刻膠膜厚儀的測量原理主要基于光學干涉和反射原理。該儀器發出特定波長的光波,這些光波穿透光刻膠膜層。在穿透過程中,光的一部分在膜層的上表面反射,另一部分在膜層的下表面反射。這兩個反射光波之間會產生相位差,這個相位差受到薄膜的厚度和折射率的影響。當相位差為波長的整數倍時,上下表面的反射光波會產生建設性疊加,使得反射光的強度增強,此時反射率達到******大。而當相位差為波長的半整數倍時,反射光波會發生破壞性疊加,導致反射光強度減弱,反射率達到******低。對于其他相位差,反射率則介于******大和******小之間。通過測量反射光的強度,并與已知的光學參數進行比較,可以推導出光刻膠膜的厚度。此外,儀器還可以根據反射光的角度分布或其他特性,進一步確定光刻膠膜的其他相關參數,如均勻性和表面形貌等。光刻膠膜厚儀的測量原理不僅具有高精度和高可靠性的優點,而且非接觸式測量方式不會對光刻膠膜造成損傷,適用于各種類型的光刻膠膜厚測量需求。在半導體制造、微電子器件等領域中,光刻膠膜厚儀發揮著重要作用,為工藝控制和產品質量提供了有力保障。

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