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制冷式光譜儀可以測量物體的薄膜厚度，可以測量的膜層厚度10nm-50μm，分辨率為1nm。除此之外還會被應用在金屬和玻璃材料基底上光學膜層厚度的測量。
制冷式光譜儀的基本結構由光柵、狹縫和探測器組成。在購買光譜儀時，必須詳細說明這些元件的參數。光譜儀的性能取決于這些元件的組合和校準。校準后，光纖光譜儀的原理不能改變。
制冷式光譜儀可以通過獲得紫外線的光譜來測量紫外線強度。可以先使用樣品收集紫外線，然后在通過研究紫外線的樣品的光譜來得到需要的研究數據。科研人員可以使用樣品固定器進行樣品的吸收率測量。

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